다공성 탄탈륨 카바이드 코팅 흑연 링

다공성 탄탈륨 카바이드 코팅 흑연 링
다공성 탄탈륨 카바이드(TaC) 코팅 흑연탄탈륨 카바이드(TaC)는 고온, 고부식성 반도체 제조 환경에 특화하여 개발된 핵심 소재입니다. TaC의 기판은 고순도 등방성 흑연이며, 화학 기상 증착(CVD) 방식으로 균일한 다공성을 가진 탄탈륨 카바이드 코팅으로 덮여 있습니다. TaC는 모스 경도 9~10의 매우 높은 경도와 3880°C의 융점을 가지고 있습니다. 흑연의 뛰어난 열 안정성과 경량성을 결합한 이 소재는 고온 강도와 화학적 부식 및 열 충격에 대한 저항성을 모두 갖추고 있어 극한 조건에서 작동하는 반도체 공정 장비에 이상적인 소재입니다.

다공성 탄탈륨 카바이드 흑연의 장점:
1. 초고강도 내식성
TaC는 화학적으로 불활성이며, 불소 및 염소와 같은 할로겐 원소에 의한 부식을 효과적으로 방지하여 장비 수명을 크게 연장합니다.
-다공성 구조는 코팅의 표면적을 증가시켜 더욱 견고한 보호막을 형성하고 입자 탈락 위험을 줄입니다.
2. 뛰어난 고온 안정성
- 녹는점이 4000°C에 육박하는 이 소재는 2500°C를 초과하는 진공 또는 불활성 분위기에서 장시간 작동할 수 있습니다.
-코팅의 열팽창 계수가 흑연의 열팽창 계수와 매우 유사하여 열순환으로 인한 균열 및 박리를 방지합니다.
3. 높은 순도 및 낮은 오염도
-반도체 등급의 원료와 공정을 사용하여 금속 불순물 함량이 극히 낮아 웨이퍼 오염 위험을 크게 줄였습니다.
-표면은 밀도가 높고 화학적으로 안정적이어서 입자 발생을 줄이고 엄격한 클린룸 기준을 충족합니다.
4. 맞춤 디자인
고객 도면에 따라 복잡한 형상을 제작할 수 있으며, 최적의 가스 흐름과 열전도율을 얻기 위해 다공성과 코팅 두께를 제어할 수 있습니다.
5. 긴 수명 및 낮은 유지보수 비용
다공성 TaC 코팅의 매우 뛰어난 내식성 및 내마모성은 기존 흑연에 비해 부품 수명을 3~5배 연장시켜 교체 빈도와 유지 보수 비용을 절감합니다.

주요 응용 분야
1. 웨이퍼 제조용 핵심 구성 요소
- CVD/ALD 장비용 반응 챔버 라이너, 배플 및 샤워헤드
- PVD 타겟 지원
- 확산, 산화, 어닐링 및 기타 공정에 사용되는 고온 공정 부품
2. 화학 기상 증착 시스템
- 공정 중 부식성이 매우 강한 환경(예: 불화물 및 염화물)에서 주요 구성 요소를 보호합니다.
3. 기타 고온 부식 환경
- 화학 가스 정화, 특수 열처리로 및 기타 용도에 적합합니다.