Fàinne Grafait Còmhdaichte le Carbide Tantalum Porous

Fàinne Grafait Còmhdaichte le Carbide Tantalum Porous
Grafait còmhdaichte le carbide tantalum porous (TaC)'S e stuth cudromach a th' ann a chaidh a leasachadh gu sònraichte airson àrainneachdan àrd-theodhachd, gu math creimneach saothrachadh leth-chonnsachaidh. 'S e grafait isostatach àrd-ghlanachd a th' anns an t-substrate aige, còmhdaichte le còmhdach tantalum carbide gu cothromach porous a' cleachdadh tasgadh smùid ceimigeach (CVD). Tha cruas air leth àrd aig TaC (9-10 air sgèile Mohs) agus puing leaghaidh de 3880°C. Còmhla ri seasmhachd teirmeach sàr-mhath grafait agus feartan aotrom, tha an stuth seo a’ cothlamadh neart àrd-theodhachd le strì an aghaidh ionnsaigh cheimigeach agus clisgeadh teirmeach, ga dhèanamh na roghainn air leth freagarrach airson uidheamachd pròiseas leth-chonnsachaidh ag obair fo chumhachan anabarrach.

Buannachdan Graphite Carbide Tantalum Porous:
1. Frith-aghaidh Creimeadh Ultra-Àrd
-Tha TaC neo-ghnìomhach gu ceimigeach, a’ seasamh an aghaidh creimeadh bho halogenan leithid fluorine agus clòirin gu h-èifeachdach, a’ leudachadh beatha uidheamachd gu mòr.
-Tha an structar porous a’ meudachadh farsaingeachd uachdar a’ chòmhdaich, a’ cruthachadh cnap-dìon nas làidire agus a’ lughdachadh cunnart rùsgadh mìrean.
2. Seasmhachd Teòthachd Àrd Sàr-mhath
-Le puing leaghaidh a’ tighinn faisg air 4000°C, faodaidh e obrachadh airson ùine mhòr ann an àile falamh no neo-ghnìomhach nas àirde na 2500°C.
-Tha co-èifeachd leudachaidh teirmeach a’ chòmhdaich gu math co-ionnan ri co-èifeachd leudachaidh teirmeach a’ ghrafait, a’ cur casg air sgàineadh agus delamination air adhbhrachadh le rothaireachd teirmeach.
3. Glanachd Àrd agus Truailleadh Ìosal
-Le bhith a’ cleachdadh stuthan amh agus pròiseasan ìre leth-chonnsachaidh, tha susbaint neo-ghlainead meatailt gu math ìosal, a’ lughdachadh gu mòr cunnart truailleadh wafer.
-Tha an uachdar dùmhail agus seasmhach gu ceimigeach, a’ lughdachadh gineadh mìrean agus a’ coinneachadh ri inbhean teann seòmar-glan.
4. Dealbhadh Gnàthaichte
Faodar cumaidhean iom-fhillte a dhèanamh a rèir dealbhan luchd-ceannach, agus faodar smachd a chumail air porosity agus tighead còmhdach gus an sruth gas agus an giùlan teirmeach as fheàrr a choileanadh.
5. Fad-beatha fhada agus cosgais cumail suas ìosal
Tha an aghaidh creimeadh is caitheamh air leth àrd aig còmhdach TaC porous a’ meudachadh beatha phàirtean 3-5 uiread an taca ri grafait thraidiseanta, a’ lughdachadh tricead ath-chur agus cosgaisean cumail suas.

Prìomh Thagraidhean
1. Prìomh phàirtean airson saothrachadh wafer
- Lìnigeadh seòmar ath-bhualadh, baffles, agus ceann fras airson uidheamachd CVD/ALD
- Taic targaid PVD
- Co-phàirtean pròiseas àrd-teòthachd airson sgaoileadh, ocsaidachadh, teasachadh, agus pròiseasan eile
2. Siostaman tasgadh smùid ceimigeach
- A’ dìon phrìomh phàirtean ann an àrainneachdan a tha gu math creimneach (leithid fluorides agus chlorides) rè a’ phròiseis
3. Àrainneachdan creimneach àrd-teòthachd eile
- Freagarrach airson glanadh gas ceimigeach, àmhainnean làimhseachaidh teas sònraichte, agus tagraidhean eile.