Singsing na Graphite na Pinahiran ng Butas na Tantalum Carbide

Singsing na Graphite na Pinahiran ng Butas na Tantalum Carbide
Grapayt na pinahiran ng butas-butas na tantalum carbide (TaC)ay isang mahalagang materyal na partikular na binuo para sa mga kapaligirang mataas ang temperatura at lubos na kinakaing unti-unti ng paggawa ng semiconductor. Ang substrate nito ay high-purity isostatic graphite, na pinahiran ng pantay na porous na tantalum carbide coating gamit ang chemical vapor deposition (CVD). Ang TaC ay may napakataas na katigasan (9-10 sa Mohs scale) at melting point na 3880°C. Kasama ang mahusay na thermal stability at magaan na katangian ng graphite, pinagsasama ng materyal na ito ang lakas na mataas ang temperatura na may resistensya sa chemical attack at thermal shock, kaya isa itong mainam na pagpipilian para sa mga kagamitan sa proseso ng semiconductor na gumagana sa ilalim ng matinding mga kondisyon.

Mga Bentahe ng Porous Tantalum Carbide Graphite:
1. Napakataas na Paglaban sa Kaagnasan
-Ang TaC ay hindi gumagalaw sa kemikal, epektibong lumalaban sa kalawang mula sa mga halogen tulad ng fluorine at chlorine, na makabuluhang nagpapahaba sa buhay ng kagamitan.
-Ang porous na istraktura ay nagpapataas ng surface area ng patong, na bumubuo ng mas matibay na proteksiyon na harang at binabawasan ang panganib ng pagkalat ng particle.
2. Napakahusay na Katatagan sa Mataas na Temperatura
-Sa temperaturang natutunaw na papalapit sa 4000°C, maaari itong gumana nang matagal na panahon sa vacuum o mga inert na atmospera na higit sa 2500°C.
-Ang thermal expansion coefficient ng coating ay lubos na tumutugma sa graphite, na pumipigil sa pagbibitak at delamination na dulot ng thermal cycling.
3. Mataas na Kadalisayan at Mababang Kontaminasyon
-Gamit ang mga hilaw na materyales at prosesong semiconductor-grade, ang nilalaman ng dumi sa metal ay napakababa, na lubos na nakakabawas sa panganib ng kontaminasyon ng wafer.
-Ang ibabaw ay siksik at matatag sa kemikal, na binabawasan ang pagbuo ng mga particle at nakakatugon sa mahigpit na pamantayan ng cleanroom.
4. Pasadyang Disenyo
Maaaring gumawa ng mga kumplikadong hugis ayon sa mga drowing ng customer, at maaaring kontrolin ang porosity at kapal ng patong upang makamit ang pinakamainam na daloy ng gas at thermal conductivity.
5. Mahabang Buhay at Mababang Gastos sa Pagpapanatili
Ang napakataas na resistensya sa kalawang at pagkasira ng mga porous na TaC coatings ay nagpapataas ng buhay ng bahagi nang 3-5 beses kumpara sa tradisyonal na graphite, na binabawasan ang dalas ng pagpapalit at mga gastos sa pagpapanatili.

Pangunahing Aplikasyon
1. Mga pangunahing bahagi para sa paggawa ng wafer
- Mga liner, baffle, at shower-head ng reaction chamber para sa kagamitang CVD/ALD
- Mga suporta sa target na PVD
- Mga bahagi ng prosesong may mataas na temperatura para sa diffusion, oxidation, annealing, at iba pang mga proseso
2. Mga sistema ng pagdeposito ng kemikal na singaw
- Pagprotekta sa mga pangunahing bahagi sa mga kapaligirang lubhang kinakaing unti-unti (tulad ng mga fluoride at chloride) habang isinasagawa ang proseso
3. Iba pang mga kapaligirang kinakaing unti-unting tumatama sa mataas na temperatura
- Angkop para sa paglilinis ng kemikal na gas, mga espesyal na heat treatment furnace, at iba pang mga aplikasyon.