සිදුරු සහිත ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපිත මිනිරන් මුද්ද

සිදුරු සහිත ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපිත මිනිරන් මුද්ද
සිදුරු සහිත ටැන්ටලම් කාබයිඩ් (TaC) ආලේපිත මිනිරන්අර්ධ සන්නායක නිෂ්පාදනයේ ඉහළ-උෂ්ණත්ව, අධික විඛාදන පරිසරයන් සඳහා විශේෂයෙන් සංවර්ධනය කරන ලද ප්‍රධාන ද්‍රව්‍යයකි. එහි උපස්ථරය ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් සමස්ථානික ග්‍රැෆයිට් වන අතර එය රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම (CVD) භාවිතයෙන් ඒකාකාරව සිදුරු සහිත ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ආලේපනයකින් ආලේප කර ඇත. TaC හි අතිශයින් ඉහළ දෘඪතාව (මෝස් පරිමාණයෙන් 9-10) සහ 3880°C ද්‍රවාංකයක් ඇත. ග්‍රැෆයිට් වල විශිෂ්ට තාප ස්ථායිතාව සහ සැහැල්ලු ගුණාංග සමඟ ඒකාබද්ධව, මෙම ද්‍රව්‍යය රසායනික ප්‍රහාරයට සහ තාප කම්පනයට ප්‍රතිරෝධය සමඟ ඉහළ උෂ්ණත්ව ශක්තිය ඒකාබද්ධ කරයි, එය ආන්තික තත්වයන් යටතේ ක්‍රියාත්මක වන අර්ධ සන්නායක ක්‍රියාවලි උපකරණ සඳහා කදිම තේරීමක් කරයි.

සිදුරු සහිත ටැන්ටලම් කාබයිඩ් ග්‍රැෆයිට් වල වාසි:
1. අතිශය ඉහළ විඛාදන ප්‍රතිරෝධය
-TaC රසායනිකව නිෂ්ක්‍රීය වන අතර, ෆ්ලෝරීන් සහ ක්ලෝරීන් වැනි හැලජන් වලින් විඛාදනයට ඵලදායී ලෙස ප්‍රතිරෝධය දක්වයි, උපකරණවල ආයු කාලය සැලකිය යුතු ලෙස දීර්ඝ කරයි.
- සිදුරු සහිත ව්‍යුහය ආලේපනයේ මතුපිට වර්ගඵලය වැඩි කරයි, වඩාත් ශක්තිමත් ආරක්ෂිත බාධකයක් සාදයි සහ අංශු වැගිරීමේ අවදානම අඩු කරයි.
2. විශිෂ්ට ඉහළ උෂ්ණත්ව ස්ථායිතාව
- ද්‍රවාංකය 4000°C ට ළඟා වන විට, එය රික්තක හෝ 2500°C ඉක්මවන නිෂ්ක්‍රීය වායුගෝලවල දීර්ඝ කාලයක් ක්‍රියා කළ හැකිය.
-ආලේපනයේ තාප ප්‍රසාරණ සංගුණකය ග්‍රැෆයිට් වලට බෙහෙවින් ගැලපෙන අතර, තාප චක්‍රය නිසා ඇතිවන ඉරිතැලීම් සහ දිරාපත්වීම වළක්වයි.
3. ඉහළ සංශුද්ධතාවය සහ අඩු දූෂණය
- අර්ධ සන්නායක ශ්‍රේණියේ අමුද්‍රව්‍ය සහ ක්‍රියාවලීන් භාවිතා කිරීමේදී, ලෝහ අපිරිසිදු අන්තර්ගතය අතිශයින් අඩු වන අතර, වේෆර් දූෂණය වීමේ අවදානම සැලකිය යුතු ලෙස අඩු කරයි.
- පෘෂ්ඨය ඝන සහ රසායනිකව ස්ථායී වන අතර, අංශු උත්පාදනය අඩු කරන අතර දැඩි පිරිසිදු කාමර ප්‍රමිතීන් සපුරාලයි.
4. අභිරුචි නිර්මාණය
පාරිභෝගික චිත්‍රවලට අනුව සංකීර්ණ හැඩතල නිපදවිය හැකි අතර, ප්‍රශස්ත වායු ප්‍රවාහය සහ තාප සන්නායකතාවය ලබා ගැනීම සඳහා සිදුරු සහ ආලේපන ඝණකම පාලනය කළ හැකිය.
5. දිගු ආයු කාලයක් සහ අඩු නඩත්තු පිරිවැය
සිදුරු සහිත TaC ආලේපනවල අතිශයින් ඉහළ විඛාදන සහ ඇඳීමට ඇති ප්‍රතිරෝධය සාම්ප්‍රදායික මිනිරන් හා සසඳන විට සංරචක ආයු කාලය 3-5 ගුණයකින් වැඩි කරයි, ප්‍රතිස්ථාපන වාර ගණන සහ නඩත්තු වියදම් අඩු කරයි.

ප්‍රධාන යෙදුම්
1. වේෆර් නිෂ්පාදනය සඳහා මූලික සංරචක
- CVD/ALD උපකරණ සඳහා ප්‍රතික්‍රියා කුටීර ලයිනර්, බැෆල් සහ ෂවර්-හෙඩ්
- PVD ඉලක්ක ආධාරක
- විසරණය, ඔක්සිකරණය, ඇනීලිං සහ අනෙකුත් ක්‍රියාවලීන් සඳහා ඉහළ උෂ්ණත්ව ක්‍රියාවලි සංරචක
2. රසායනික වාෂ්ප තැන්පත් කිරීමේ පද්ධති
- ක්‍රියාවලිය අතරතුර අධික විඛාදන පරිසරවල (ෆ්ලෝරයිඩ් සහ ක්ලෝරයිඩ් වැනි) ප්‍රධාන සංරචක ආරක්ෂා කිරීම.
3. අනෙකුත් ඉහළ උෂ්ණත්ව විඛාදන පරිසරයන්
- රසායනික වායු පිරිපහදු කිරීම, විශේෂිත තාප පිරියම් කිරීමේ ඌෂ්මක සහ අනෙකුත් යෙදුම් සඳහා සුදුසු වේ.