多孔質炭化タンタルコーティンググラファイトリング

多孔質炭化タンタルコーティンググラファイトリング
多孔質炭化タンタル（TaC）コーティンググラファイトは、半導体製造における高温かつ腐食性の高い環境向けに特別に開発された重要な材料です。その基材は高純度等方性グラファイトで、化学気相成長法（CVD）を用いて均一な多孔質炭化タンタル（TaC）コーティングが施されています。TaCは極めて高い硬度（モース硬度9～10）と3880℃の融点を有しています。グラファイトの優れた熱安定性と軽量性に加え、この材料は高温強度と耐薬品性、耐熱衝撃性を兼ね備えており、過酷な条件下で稼働する半導体製造装置に理想的な選択肢となっています。

多孔質炭化タンタルグラファイトの利点：
1. 超高耐食性
-TaCは化学的に不活性であり、フッ素や塩素などのハロゲンによる腐食を効果的に抑制し、機器の寿命を大幅に延ばします。
多孔質構造によりコーティングの表面積が増加し、より強固な保護バリアが形成され、粒子剥離のリスクが低減されます。
2. 優れた高温安定性
融点が4000℃近くに達するため、2500℃を超える真空または不活性雰囲気下で長時間稼働することが可能です。
コーティングの熱膨張係数はグラファイトの熱膨張係数と非常によく一致しており、熱サイクルによるひび割れや剥離を防ぎます。
3. 高純度かつ低汚染
半導体グレードの原材料とプロセスを使用することで、金属不純物の含有量を極めて低く抑え、ウェハー汚染のリスクを大幅に低減します。
表面は緻密で化学的に安定しており、粒子発生を抑制し、厳格なクリーンルーム基準を満たしています。
4. カスタムデザイン
顧客の図面に基づいて複雑な形状を製造でき、多孔度やコーティングの厚さを制御することで、最適なガス流量と熱伝導率を実現できます。
5. 長寿命と低メンテナンスコスト
多孔質TaCコーティングの極めて高い耐腐食性と耐摩耗性により、従来のグラファイトと比較して部品寿命が3～5倍延び、交換頻度とメンテナンスコストが削減される。

主な用途
1. ウェハ製造の中核部品
- CVD/ALD装置用反応チャンバーライナー、バッフル、シャワーヘッド
- PVDターゲットはサポートしています
拡散、酸化、アニーリング、その他のプロセス用の高温プロセス部品
2. 化学気相成長システム
- プロセス中に腐食性の高い環境（フッ化物や塩化物など）で主要部品を保護する
3. その他の高温腐食環境
化学ガス精製、特殊熱処理炉、その他の用途に適しています。