แหวนกราไฟต์เคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์แบบมีรูพรุน

แหวนกราไฟต์เคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์แบบมีรูพรุน
กราไฟต์เคลือบด้วยแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) ที่มีรูพรุนTaC เป็นวัสดุสำคัญที่พัฒนาขึ้นโดยเฉพาะสำหรับสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงและกัดกร่อนสูงในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ พื้นผิวของมันคือแกรไฟต์ไอโซสแตติกที่มีความบริสุทธิ์สูง เคลือบด้วยสารเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ที่มีรูพรุนสม่ำเสมอโดยใช้กระบวนการการตกตะกอนไอสารเคมี (CVD) TaC มีความแข็งสูงมาก (9-10 บนมาตราโมห์) และจุดหลอมเหลวที่ 3880°C เมื่อรวมกับเสถียรภาพทางความร้อนที่ดีเยี่ยมและคุณสมบัติที่เบาของแกรไฟต์ วัสดุนี้จึงรวมความแข็งแรงที่อุณหภูมิสูงเข้ากับความต้านทานต่อการกัดกร่อนทางเคมีและการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลัน ทำให้เป็นตัวเลือกที่เหมาะสมสำหรับอุปกรณ์กระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่ทำงานภายใต้สภาวะที่รุนแรง

ข้อดีของกราไฟต์แทนทาลัมคาร์ไบด์พรุน:
1. ทนทานต่อการกัดกร่อนสูงมาก
-TaC มีคุณสมบัติเฉื่อยทางเคมี ทนทานต่อการกัดกร่อนจากฮาโลเจน เช่น ฟลูออรีนและคลอรีนได้อย่างมีประสิทธิภาพ ช่วยยืดอายุการใช้งานของอุปกรณ์ได้อย่างมาก
-โครงสร้างที่มีรูพรุนช่วยเพิ่มพื้นที่ผิวของสารเคลือบ ทำให้เกิดเกราะป้องกันที่แข็งแรงขึ้น และลดความเสี่ยงจากการหลุดร่วงของอนุภาค
2. มีเสถียรภาพสูงในอุณหภูมิสูง
-ด้วยจุดหลอมเหลวที่ใกล้เคียง 4000°C ทำให้สามารถใช้งานได้เป็นเวลานานในสภาวะสุญญากาศหรือบรรยากาศเฉื่อยที่มีอุณหภูมิสูงกว่า 2500°C
-ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนของสารเคลือบมีความใกล้เคียงกับของกราไฟต์มาก ซึ่งช่วยป้องกันการแต cracking และการหลุดลอกที่เกิดจากการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ
3. ความบริสุทธิ์สูงและการปนเปื้อนต่ำ
-การใช้วัตถุดิบและกระบวนการระดับเซมิคอนดักเตอร์ ทำให้ปริมาณสิ่งเจือปนของโลหะต่ำมาก ซึ่งช่วยลดความเสี่ยงของการปนเปื้อนในแผ่นเวเฟอร์ได้อย่างมีนัยสำคัญ
-พื้นผิวมีความหนาแน่นและเสถียรทางเคมี ช่วยลดการเกิดอนุภาคและตรงตามมาตรฐานห้องปลอดเชื้อที่เข้มงวด
4. การออกแบบตามสั่ง
สามารถผลิตรูปทรงที่ซับซ้อนได้ตามแบบที่ลูกค้ากำหนด และสามารถควบคุมความพรุนและความหนาของสารเคลือบเพื่อให้ได้การไหลของก๊าซและการนำความร้อนที่เหมาะสมที่สุด
5. อายุการใช้งานยาวนานและค่าบำรุงรักษาต่ำ
คุณสมบัติการต้านทานการกัดกร่อนและการสึกหรอที่สูงมากของสารเคลือบ TaC แบบมีรูพรุน ช่วยยืดอายุการใช้งานของชิ้นส่วนได้ 3-5 เท่า เมื่อเทียบกับกราไฟต์แบบดั้งเดิม ลดความถี่ในการเปลี่ยนชิ้นส่วนและค่าใช้จ่ายในการบำรุงรักษา

การใช้งานหลัก
1. ส่วนประกอบหลักสำหรับการผลิตเวเฟอร์
- วัสดุบุภายในห้องปฏิกิริยา แผ่นกั้น และหัวฉีดน้ำสำหรับอุปกรณ์ CVD/ALD
- รองรับเป้าหมาย PVD
- ชิ้นส่วนสำหรับกระบวนการอุณหภูมิสูง เช่น การแพร่ การออกซิเดชัน การอบอ่อน และกระบวนการอื่นๆ
2. ระบบการตกตะกอนด้วยไอสารเคมี
- การปกป้องชิ้นส่วนสำคัญในสภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อนสูง (เช่น ฟลูออไรด์และคลอไรด์) ในระหว่างกระบวนการ
3. สภาพแวดล้อมที่มีฤทธิ์กัดกร่อนและอุณหภูมิสูงอื่นๆ
- เหมาะสำหรับใช้ในการทำให้ก๊าซบริสุทธิ์ทางเคมี เตาอบชุบความร้อนแบบพิเศษ และการใช้งานอื่นๆ