Pora Tantala Karbido Tegita Grafita Ringo

Pora Tantala Karbido Tegita Grafita Ringo
Pora tantala karbido (TaC) kovrita grafitoestas ŝlosila materialo evoluigita specife por la alttemperaturaj, tre korodaj medioj de duonkonduktaĵa fabrikado. Ĝia substrato estas altpureca izostatika grafito, kovrita per unuforme pora tantala karbida tegaĵo uzante kemian vaporan demetadon (CVD). TaC havas ekstreme altan malmolecon (9-10 sur la Mohs-skalo) kaj fandopunkton de 3880 °C. Kombinite kun la bonega termika stabileco kaj malpezaj ecoj de grafito, ĉi tiu materialo kombinas alttemperaturan forton kun rezisto al kemia atako kaj termika ŝoko, igante ĝin ideala elekto por duonkonduktaĵaj prilaboraj ekipaĵoj funkciantaj sub ekstremaj kondiĉoj.

Avantaĝoj de Pora Tantala Karbida Grafito:
1. Ultra-Alta Kororezisto
-TaC estas kemie inerta, efike rezistas korodon de halogenoj kiel fluoro kaj kloro, signife plilongigante la vivdaŭron de ekipaĵo.
-La pora strukturo pligrandigas la surfacareon de la tegaĵo, formante pli fortikan protektan baron kaj reduktante la riskon de partikla deĵetado.
2. Bonega Stabileco je Alta Temperaturo
-Kun fandopunkto proksimiĝanta al 4000 °C, ĝi povas funkcii dum plilongigitaj periodoj en vakuo aŭ inertaj atmosferoj superantaj 2500 °C.
-La termika ekspansiokoeficiento de la tegaĵo estas tre kongrua kun tiu de la grafito, malhelpante fendetiĝojn kaj delaminadon kaŭzitajn de termika ciklado.
3. Alta Pureco kaj Malalta Poluado
-Uzante duonkonduktaĵ-nivelajn krudmaterialojn kaj procezojn, la enhavo de metalaj malpuraĵoj estas ekstreme malalta, signife reduktante la riskon de poluado de la obletoj.
-La surfaco estas densa kaj kemie stabila, reduktante partiklan generadon kaj plenumante striktajn normojn por puraj ĉambroj.
4. Laŭmenda Dezajno
Kompleksaj formoj povas esti produktitaj laŭ klientaj desegnaĵoj, kaj poreco kaj tegaĵdikeco povas esti kontrolitaj por atingi optimuman gasfluon kaj varmokonduktecon.
5. Longa Vivdaŭro Kaj Malalta Bontenado-Kosto
La ekstreme alta korodo- kaj eluziĝrezisto de poraj TaC-tegaĵoj plilongigas la vivdaŭron de komponentoj 3-5-oble kompare kun tradicia grafito, reduktante anstataŭigan oftecon kaj bontenadkostojn.

Ĉefaj Aplikoj
1. Kernaj komponantoj por fabrikado de vaflaĵoj
- Reakciaj kameraj tegaĵoj, deflektoroj kaj duŝkapo por CVD/ALD-ekipaĵo
- PVD-celo subtenas
- Alt-temperaturaj procezaj komponantoj por difuzo, oksidado, kalcinado kaj aliaj procezoj
2. Kemiaj vaporaj deponadsistemoj
- Protekti ŝlosilajn komponantojn en tre korodaj medioj (kiel fluoridoj kaj kloridoj) dum la procezo
3. Aliaj korodaj medioj je alta temperaturo
- Taŭga por kemia gaspurigo, specialigitaj varmotraktadaj fornoj kaj aliaj aplikoj.