सच्छिद्र टँटॅलम कार्बाइड लेपित ग्रॅफाइट रिंग

सच्छिद्र टँटॅलम कार्बाइड लेपित ग्रॅफाइट रिंग
सच्छिद्र टँटॅलम कार्बाइड (TaC) लेपित ग्रॅफाइटसेमीकंडक्टर निर्मितीच्या उच्च-तापमान आणि अत्यंत क्षरणकारी वातावरणासाठी विशेषतः विकसित केलेले TaC हे एक महत्त्वाचे मटेरियल आहे. याचा सबस्ट्रेट उच्च-शुद्धतेचा आयसोस्टॅटिक ग्रॅफाइट असून, त्यावर केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन (CVD) वापरून एकसमान सच्छिद्र टँटलम कार्बाइडचा लेप दिला जातो. TaC मध्ये अत्यंत उच्च कठीणता (मोह्स स्केलवर ९-१०) आणि ३८८०°C चा वितळणांक असतो. ग्रॅफाइटची उत्कृष्ट औष्णिक स्थिरता आणि हलकेपणा या गुणधर्मांसोबत, हे मटेरियल उच्च-तापमानातील मजबुती आणि रासायनिक हल्ल्याला व औष्णिक धक्क्याला प्रतिकार करण्याची क्षमता एकत्र आणते, ज्यामुळे अत्यंत कठीण परिस्थितीत चालणाऱ्या सेमीकंडक्टर प्रक्रिया उपकरणांसाठी हा एक आदर्श पर्याय ठरतो.

सच्छिद्र टँटॅलम कार्बाइड ग्रॅफाइटचे फायदे:
१. अत्यंत उच्च गंजरोधकता
-TaC रासायनिक दृष्ट्या निष्क्रिय असून, फ्लोरीन आणि क्लोरीनसारख्या हॅलोजन्समुळे होणाऱ्या क्षरणाला प्रभावीपणे प्रतिकार करते, ज्यामुळे उपकरणांचे आयुष्य लक्षणीयरीत्या वाढते.
सच्छिद्र रचनेमुळे लेपाचे पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ वाढते, ज्यामुळे अधिक मजबूत संरक्षक थर तयार होतो आणि कण गळण्याचा धोका कमी होतो.
२. उत्कृष्ट उच्च-तापमान स्थिरता
-४०००°C च्या जवळपास वितळणबिंदू असल्याने, ते २५००°C पेक्षा जास्त तापमानाच्या निर्वात किंवा निष्क्रिय वातावरणात दीर्घ काळासाठी कार्यरत राहू शकते.
कोटिंगचा औष्णिक प्रसरण गुणांक ग्रॅफाइटच्या गुणांकाशी तंतोतंत जुळतो, ज्यामुळे औष्णिक चढउतारामुळे होणारे तडे जाणे आणि थर सुटणे टाळले जाते.
३. उच्च शुद्धता आणि कमी भेसळ
सेमीकंडक्टर-ग्रेड कच्चा माल आणि प्रक्रिया वापरल्यामुळे, धातूंच्या अशुद्धतेचे प्रमाण अत्यंत कमी असते, ज्यामुळे वेफर दूषित होण्याचा धोका लक्षणीयरीत्या कमी होतो.
पृष्ठभाग घन आणि रासायनिक दृष्ट्या स्थिर असल्यामुळे, कणांची निर्मिती कमी होते आणि कडक क्लीनरूम मानकांची पूर्तता होते.
४. सानुकूल डिझाइन
ग्राहकांच्या रेखाचित्रांनुसार गुंतागुंतीचे आकार तयार केले जाऊ शकतात आणि इष्टतम वायू प्रवाह व औष्णिक वाहकता साध्य करण्यासाठी सच्छिद्रता आणि लेपनाची जाडी नियंत्रित केली जाऊ शकते.
५. दीर्घायुष्य आणि कमी देखभाल खर्च
सच्छिद्र TaC लेपनांचा अत्यंत उच्च गंजरोधक आणि झीजरोधक गुणधर्म पारंपरिक ग्रॅफाइटच्या तुलनेत घटकांचे आयुष्य ३-५ पटीने वाढवतो, ज्यामुळे बदलण्याची वारंवारता आणि देखभालीचा खर्च कमी होतो.

मुख्य अनुप्रयोग
१. वेफर उत्पादनासाठीचे मुख्य घटक
सीव्हीडी/एएलडी उपकरणांसाठी रिॲक्शन चेंबर लायनर्स, बॅफल्स आणि शॉवर-हेड
- PVD लक्ष्य समर्थन करते
विसरण, ऑक्सिडेशन, ॲनीलिंग आणि इतर प्रक्रियांसाठी उच्च-तापमान प्रक्रिया घटक
२. रासायनिक बाष्प निक्षेपण प्रणाली
प्रक्रियेदरम्यान अत्यंत क्षरणकारक वातावरणात (जसे की फ्लोराइड आणि क्लोराइड) महत्त्वाच्या घटकांचे संरक्षण करणे.
३. इतर उच्च-तापमानाचे क्षरणकारी वातावरण
रासायनिक वायू शुद्धीकरण, विशेष उष्णता प्रक्रिया भट्ट्या आणि इतर अनुप्रयोगांसाठी उपयुक्त.