छिद्रपूर्ण ट्यान्टलम कार्बाइड लेपित ग्रेफाइट रिंग

छिद्रपूर्ण ट्यान्टलम कार्बाइड लेपित ग्रेफाइट रिंग
छिद्रपूर्ण ट्यान्टलम कार्बाइड (TaC) लेपित ग्रेफाइटयो अर्धचालक उत्पादनको उच्च-तापमान, अत्यधिक संक्षारक वातावरणको लागि विशेष रूपमा विकसित गरिएको एक प्रमुख सामग्री हो। यसको सब्सट्रेट उच्च-शुद्धता आइसोस्टेटिक ग्रेफाइट हो, जुन रासायनिक वाष्प निक्षेपण (CVD) प्रयोग गरेर एक समान छिद्रपूर्ण ट्यान्टलम कार्बाइड कोटिंगले लेपित हुन्छ। TaC मा अत्यन्त उच्च कठोरता (मोह्स स्केलमा 9-10) र 3880°C को पग्लने बिन्दु छ। ग्रेफाइटको उत्कृष्ट थर्मल स्थिरता र हल्का वजन गुणहरूसँग मिलेर, यो सामग्रीले रासायनिक आक्रमण र थर्मल झट्काको प्रतिरोधको साथ उच्च-तापमान शक्तिलाई संयोजन गर्दछ, जसले यसलाई चरम परिस्थितिहरूमा सञ्चालन हुने अर्धचालक प्रक्रिया उपकरणहरूको लागि एक आदर्श विकल्प बनाउँछ।

छिद्रपूर्ण ट्यान्टलम कार्बाइड ग्रेफाइटका फाइदाहरू:
१. अति-उच्च जंग प्रतिरोध
-TaC रासायनिक रूपमा निष्क्रिय छ, फ्लोरिन र क्लोरिन जस्ता हलोजनहरूबाट हुने क्षरणलाई प्रभावकारी रूपमा प्रतिरोध गर्दछ, जसले उपकरणको आयुलाई उल्लेखनीय रूपमा विस्तार गर्दछ।
- छिद्रपूर्ण संरचनाले कोटिंगको सतह क्षेत्रफल बढाउँछ, अझ बलियो सुरक्षात्मक अवरोध बनाउँछ र कण खस्ने जोखिम कम गर्छ।
२. उत्कृष्ट उच्च-तापमान स्थिरता
- ४००० डिग्री सेल्सियस नजिक पग्लने बिन्दु भएकोले, यो २५०० डिग्री सेल्सियस भन्दा बढी तापक्रममा भ्याकुम वा निष्क्रिय वायुमण्डलमा लामो समयसम्म सञ्चालन हुन सक्छ।
-कोटिंगको थर्मल एक्सपेन्सन कोफिसिएन्ट ग्रेफाइटसँग धेरै मिल्दोजुल्दो छ, जसले गर्दा थर्मल साइकल चलाउँदा हुने क्र्याकिंग र डिलेमिनेशनलाई रोक्छ।
३. उच्च शुद्धता र कम प्रदूषण
-अर्धचालक-ग्रेड कच्चा पदार्थ र प्रक्रियाहरू प्रयोग गर्दा, धातुको अशुद्धता सामग्री अत्यन्तै कम हुन्छ, जसले वेफर प्रदूषणको जोखिमलाई उल्लेखनीय रूपमा कम गर्छ।
-सतह बाक्लो र रासायनिक रूपमा स्थिर छ, कण उत्पादन घटाउँछ र कडा सफा कोठा मापदण्डहरू पूरा गर्दछ।
४. अनुकूलन डिजाइन
ग्राहकको रेखाचित्र अनुसार जटिल आकारहरू उत्पादन गर्न सकिन्छ, र इष्टतम ग्यास प्रवाह र थर्मल चालकता प्राप्त गर्न पोरोसिटी र कोटिंग मोटाई नियन्त्रण गर्न सकिन्छ।
५. लामो आयु र कम मर्मत लागत
छिद्रपूर्ण TaC कोटिंग्सको अत्यधिक उच्च जंग र पहिरन प्रतिरोधले परम्परागत ग्रेफाइटको तुलनामा कम्पोनेन्टको आयु ३-५ गुणाले बढाउँछ, प्रतिस्थापन आवृत्ति र मर्मत लागत घटाउँछ।

मुख्य अनुप्रयोगहरू
१. वेफर निर्माणको लागि मुख्य घटकहरू
- CVD/ALD उपकरणहरूको लागि प्रतिक्रिया चेम्बर लाइनरहरू, बाफलहरू, र शावर-हेड
- PVD लक्ष्य समर्थन गर्दछ
- प्रसार, अक्सिडेशन, एनिलिङ, र अन्य प्रक्रियाहरूको लागि उच्च-तापमान प्रक्रिया घटकहरू
२. रासायनिक वाष्प निक्षेपण प्रणालीहरू
- प्रक्रियाको क्रममा अत्यधिक संक्षारक वातावरण (जस्तै फ्लोराइड र क्लोराइड) मा प्रमुख घटकहरूको सुरक्षा गर्ने
३. अन्य उच्च-तापमान संक्षारक वातावरणहरू
- रासायनिक ग्याँस शुद्धीकरण, विशेष ताप उपचार भट्टीहरू, र अन्य अनुप्रयोगहरूको लागि उपयुक्त।