Anellu di grafite rivestitu di carburo di tantalu porosu

Anellu di grafite rivestitu di carburo di tantalu porosu
Grafite rivestita di carburo di tantalu porosu (TaC)hè un materiale chjave sviluppatu specificamente per l'ambienti à alta temperatura è assai currusivi di a fabricazione di semiconduttori. U so sustratu hè grafite isostatica di alta purezza, rivestita cù un rivestimentu di carburo di tantalu uniformemente porosu per deposizione chimica da vapore (CVD). U TaC hà una durezza estremamente alta (9-10 nantu à a scala Mohs) è un puntu di fusione di 3880 ° C. Cumbinatu cù l'eccellente stabilità termica è e proprietà di leggerezza di a grafite, questu materiale combina a resistenza à alta temperatura cù a resistenza à l'attaccu chimicu è à i shock termichi, ciò chì ne face una scelta ideale per l'apparecchiature di prucessu di semiconduttori chì operanu in cundizioni estreme.

Vantaghji di a grafite porosa di carburu di tantalu:
1. Resistenza à a corrosione ultra-alta
-TaC hè chimicamente inerte, resiste efficacemente à a corrosione da alogeni cum'è u fluoru è u cloru, allungendu significativamente a vita di l'apparecchiature.
-A struttura porosa aumenta a superficia di u rivestimentu, furmendu una barriera protettiva più robusta è riducendu u risicu di spargimentu di particelle.
2. Eccellente stabilità à alta temperatura
-Cù un puntu di fusione chì s'avvicina à 4000 °C, pò funziunà per periodi estesi in u vacuum o in atmosfere inerti chì superanu i 2500 °C.
-U coefficientu di dilatazione termica di u rivestimentu hè assai currispundente à quellu di a grafite, impedendu a screpolatura è a delaminazione causate da i cicli termichi.
3. Alta Purezza è Bassa Contaminazione
-Utilizendu materie prime è prucessi di qualità semiconduttore, u cuntenutu d'impurità metallica hè estremamente bassu, riducendu significativamente u risicu di contaminazione di e wafer.
-A superficia hè densa è chimicamente stabile, riducendu a generazione di particelle è rispondendu à i standard rigorosi di e camere bianche.
4. Cuncepimentu persunalizatu
Forme cumplesse ponu esse prudutte secondu i disegni di i clienti, è a porosità è u spessore di u rivestimentu ponu esse cuntrullati per ottene un flussu di gas è una cunduttività termica ottimali.
5. Longa durata di vita è bassu costu di mantenimentu
L'altissima resistenza à a corrosione è à l'usura di i rivestimenti porosi in TaC aumenta a vita di i cumpunenti da 3 à 5 volte paragunata à a grafite tradiziunale, riducendu a frequenza di sustituzione è i costi di manutenzione.

Applicazioni principali
1. Cumponenti principali per a fabricazione di wafer
- Rivestimenti di a camera di reazione, deflettori è soffione doccia per apparecchiature CVD/ALD
- Supporti di bersagli PVD
- Cumponenti di prucessu à alta temperatura per diffusione, ossidazione, ricottura è altri prucessi
2. Sistemi di deposizione chimica di vapore
- Prutezzione di i cumpunenti chjave in ambienti altamente corrosivi (cum'è fluoruri è cloruri) durante u prucessu
3. Altri ambienti currusivi à alta temperatura
- Adattu per a purificazione chimica di gas, forni di trattamentu termicu specializati è altre applicazioni.