Bandeja de carregamento PECVD para deposição de grafite

Bandeja de carregamento PECVD, bandeja de grafite para deposição (imagem em destaque).

Descrição resumida:

A bandeja de carregamento PECVD da VET Energy foi projetada para fornecer suporte seguro e uniforme aos wafers durante a deposição, melhorando a consistência e a qualidade do processo. Com sua excelente resistência ao calor, a bandeja de grafite ajuda a manter um ambiente controlado dentro das câmaras PECVD, reduzindo o risco de contaminação e garantindo alta eficiência do processo.

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Detalhes do produto

Etiquetas do produto

A bandeja de carregamento PECVD da VET Energy é um suporte de precisão projetado para o processo PECVD (deposição química de vapor assistida por plasma). Esta bandeja de grafite de alta qualidade é feita de material de grafite de alta pureza e alta densidade. Possui excelente resistência a altas temperaturas, resistência à corrosão, estabilidade dimensional e outras características. Ela pode fornecer uma plataforma de suporte estável para o processo PECVD e garantir a uniformidade e a planicidade da deposição do filme.

As bandejas de carregamento PECVD da VET Energy são amplamente utilizadas nos setores de semicondutores, fotovoltaico, LED e outros. Por exemplo:

▪ Semicondutores: Processo PECVD para materiais semicondutores, como wafers de silício e wafers epitaxiais.

▪ Fotovoltaica: Processo PECVD para filmes finos de células solares.

▪ LED: Processo PECVD para chips de LED.

Vantagens do produto

▪Melhorar a qualidade do filme:Garantir a deposição uniforme da película e melhorar a sua qualidade.

▪Prolongue a vida útil do equipamento:Excelente resistência à corrosão, prolongando a vida útil dos equipamentos PECVD.

▪Reduzir os custos de produção:Bandejas de grafite de alta qualidade podem reduzir o índice de refugo e os custos de produção.

Material de grafite da SGL:

Parâmetro típico: R6510
Índice	Padrão de teste	Valor	Unidade
Tamanho médio do grão	ISO 13320	10	μm
densidade aparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosidade aberta	DIN66133	10	%
Tamanho de poro médio	DIN66133	1.8	μm
Permeabilidade	DIN 51935	0,06	cm²/s
Dureza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistividade elétrica específica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistência à flexão	DIN IEC 60413/501	60	MPa
resistência à compressão	DIN 51910	130	MPa
Módulo de Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Expansão térmica (20-200℃)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Condutividade térmica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Foi projetado especificamente para a fabricação de células solares de alta eficiência, suportando o processamento de wafers de grande porte G12. O design otimizado da estrutura de suporte aumenta significativamente a produtividade, permitindo maiores taxas de rendimento e menores custos de produção.

Item	Tipo	Número de wafers de suporte
Barco PEVCD Grephite - Série 156	156-13 barco de grefita	144
	156-19 barco de grefita	216
	156-21 barco de grefita	240
	Barco de grafite 156-23	308
Barco PEVCD Grephite - Série 125	125-15 barco de grefita	196
	125-19 barco de grefita	252
	125-21 barco de grife	280