SiC लेपित ग्रेफाइट अर्धचंद्राकार भागयह अर्धचालक निर्माण प्रक्रियाओं में प्रयुक्त एक प्रमुख घटक है, विशेष रूप से SiC एपिटैक्सियल उपकरणों के लिए। हम अपनी पेटेंट तकनीक का उपयोग करके अर्धचंद्राकार भाग का निर्माण करते हैं, जिसमें अत्यधिक उच्च शुद्धता, अच्छी कोटिंग एकरूपता और उत्कृष्ट सेवा जीवन के साथ-साथ उच्च रासायनिक प्रतिरोध और ऊष्मीय स्थिरता गुण होते हैं।
आधार सामग्री: उच्च शुद्धता वाला ग्रेफाइट
शुद्धता संबंधी आवश्यकताएँ:कार्बन की मात्रा ≥99.99%, राख की मात्रा ≤5 पीपीएम, यह सुनिश्चित करने के लिए कि उच्च तापमान पर कोई अशुद्धियाँ अवक्षेपित होकर एपिटैक्सियल परत को दूषित न करें।
प्रदर्शन संबंधी लाभ:
उच्च तापीय चालकता:कमरे के तापमान पर इसकी तापीय चालकता 150W/(m・K) तक पहुंच जाती है, जो तांबे के स्तर के करीब है और तेजी से ऊष्मा स्थानांतरित कर सकती है।
कम विस्तार गुणांक:5×10-6/℃ (25-1000℃), सिलिकॉन कार्बाइड सब्सट्रेट (4.2×10) के अनुरूप-6/℃), जिससे तापीय तनाव के कारण कोटिंग में होने वाली दरारें कम हो जाती हैं।
प्रसंस्करण सटीकता:चैंबर की सीलिंग सुनिश्चित करने के लिए सीएनसी मशीनिंग के माध्यम से ±0.05 मिमी की आयामी सहनशीलता प्राप्त की जाती है।
सीवीडी एसआईसी और सीवीडी टीएसी के विभेदित अनुप्रयोग
| कलई करना | प्रक्रिया | तुलना | विशिष्ट अनुप्रयोग |
| सीवीडी-एसआईसी | तापमान: 1000-1200℃, दबाव: 10-100 टॉर | कठोरता HV2500, मोटाई 50-100um, उत्कृष्ट ऑक्सीकरण प्रतिरोध (1600℃ से नीचे स्थिर) | हाइड्रोजन और सिलान जैसे पारंपरिक वातावरणों के लिए उपयुक्त सार्वभौमिक एपिटैक्सियल भट्टियां |
| सीवीडी-टीएसी | तापमान: 1600-1800℃, दाब: 1-10 टॉर | कठोरता HV3000, मोटाई 20-50um, अत्यधिक संक्षारण-प्रतिरोधी (HCl, NH₃ आदि जैसी संक्षारक गैसों का सामना कर सकता है) | अत्यधिक संक्षारक वातावरण (जैसे GaN एपिटैक्सी और एचिंग उपकरण), या विशेष प्रक्रियाएं जिनमें 2600°C के अति उच्च तापमान की आवश्यकता होती है। |
गुणवत्ता निरीक्षण
कोटिंग की मोटाई: लेजर थिकनेस गेज (सटीकता ±1um) या SEM क्रॉस-सेक्शनल विश्लेषण।
बंधन शक्ति: खरोंच परीक्षण (क्रांतिक भार > 50N) या अल्ट्रासोनिक परीक्षण (ध्वनि वेग > 5000 मीटर/सेकंड)।
संक्षारण प्रतिरोध: एचसीएल वातावरण (5 वॉल्यूम%, 1600℃) में परीक्षण की गई द्रव्यमान हानि दर (<0.1 मिलीग्राम/सेमी²・घंटा)।
वीईटी एनर्जी एक पेशेवर निर्माता है जो ग्रेफाइट, सिलिकॉन कार्बाइड, क्वार्ट्ज जैसे उच्च स्तरीय उन्नत सामग्रियों के अनुसंधान एवं विकास और उत्पादन के साथ-साथ SiC कोटिंग, TaC कोटिंग, ग्लासी कार्बन कोटिंग, पायरोलिटिक कार्बन कोटिंग आदि जैसी सामग्री उपचार तकनीकों पर ध्यान केंद्रित करती है। इसके उत्पाद फोटोवोल्टाइक, सेमीकंडक्टर, नई ऊर्जा, धातु विज्ञान आदि क्षेत्रों में व्यापक रूप से उपयोग किए जाते हैं।
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