Plateau de chargement PECVD, dépôt de graphite

Image en vedette du plateau de chargement PECVD pour dépôt de graphite

Brève description :

Le plateau de chargement PECVD de VET Energy est conçu pour assurer un support sûr et uniforme des wafers pendant le dépôt, améliorant ainsi la régularité et la qualité du processus. Grâce à son excellente résistance à la chaleur, le plateau en graphite contribue à maintenir un environnement contrôlé dans les chambres PECVD, réduisant ainsi le risque de contamination et garantissant une efficacité élevée du processus.

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Détails du produit

Étiquettes de produit

Le plateau de chargement PECVD de VET Energy est un support de précision conçu pour le procédé PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma). Ce plateau de dépôt en graphite de haute qualité est fabriqué en graphite de haute pureté et haute densité. Il présente d'excellentes caractéristiques de résistance aux températures élevées, de résistance à la corrosion et de stabilité dimensionnelle. Il constitue une plateforme stable pour le procédé PECVD et garantit l'uniformité et la planéité du dépôt du film.

Les plateaux de chargement PECVD de VET Energy sont largement utilisés dans les domaines des semi-conducteurs, du photovoltaïque, des LED et d'autres domaines. Par exemple :

▪ Semi-conducteur : procédé PECVD pour matériaux semi-conducteurs tels que les plaquettes de silicium et les plaquettes épitaxiales.

▪ Photovoltaïque : procédé PECVD pour couches minces de cellules solaires.

▪ LED : procédé PECVD pour puces LED.

Avantages du produit

▪Améliorer la qualité du film :Assurer un dépôt uniforme du film et améliorer la qualité du film.

▪Prolonger la durée de vie de l’équipement :Excellente résistance à la corrosion, prolonge la durée de vie des équipements PECVD.

▪Réduire les coûts de production :Les plateaux en graphite de haute qualité peuvent réduire le taux de rebut et réduire les coûts de production.

Matériau graphite de SGL :

Paramètre typique : R6510
Indice	Norme de test	Valeur	Unité
granulométrie moyenne	ISO 13320	10	μm
Densité apparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosité ouverte	DIN66133	10	%
Pores de taille moyenne	DIN66133	1.8	μm
Perméabilité	DIN 51935	0,06	cm²/s
Dureté Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Résistivité électrique spécifique	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Résistance à la flexion	DIN IEC 60413/501	60	MPa
Résistance à la compression	DIN 51910	130	MPa
module de Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Dilatation thermique (20-200℃)	DIN 51909	4,2X10^-6	K^-1
Conductivité thermique (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

Il est spécialement conçu pour la fabrication de cellules solaires à haut rendement, prenant en charge le traitement des plaquettes G12 de grande taille. La conception optimisée du support augmente considérablement le rendement, permettant des rendements plus élevés et des coûts de production réduits.

Article	Taper	Numéro de support de plaquette
Bateau PEVCD Grephite - La série 156	156-13 bateau en gréphite	144
	156-19 bateau en gréphite	216
	156-21 bateau en gréphite	240
	Bateau en graphite 156-23	308
Bateau PEVCD Grephite - La série 125	Bateau en gréphite 125-15	196
	Bateau grephite 125-19	252
	Bateau en graphite 125-21	280