Vassoio di caricamento PECVD, vassoio di deposizione in grafite

Vassoio di caricamento PECVD, immagine in evidenza del vassoio di grafite per la deposizione

Breve descrizione:

Il vassoio di carico PECVD di VET Energy è progettato per fornire un supporto sicuro e uniforme ai wafer durante la deposizione, migliorando la consistenza e la qualità del processo. Grazie alla sua eccellente resistenza al calore, il vassoio in grafite contribuisce a mantenere un ambiente controllato all'interno delle camere PECVD, riducendo il rischio di contaminazione e garantendo un'elevata efficienza del processo.

Inviaci un'e-mail Scarica come PDF

Dettagli del prodotto

Etichette prodotto

Il vassoio di carico PECVD di VET Energy è un supporto di precisione progettato per il processo PECVD (deposizione chimica in fase vapore assistita da plasma). Questo vassoio di deposizione in grafite di alta qualità è realizzato in grafite ad alta purezza e densità. Presenta un'eccellente resistenza alle alte temperature, alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche. Può fornire una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD e garantire l'uniformità e la planarità della deposizione del film.

I vassoi di caricamento PECVD di VET Energy sono ampiamente utilizzati nei settori dei semiconduttori, del fotovoltaico, dei LED e in altri campi. Ad esempio:

▪ Semiconduttori: processo PECVD per materiali semiconduttori come wafer di silicio e wafer epitassiali.

▪ Fotovoltaico: processo PECVD per film sottili di celle solari.

▪ LED: processo PECVD per chip LED.

Vantaggi del prodotto

▪Migliorare la qualità del film:Garantire una deposizione uniforme della pellicola e migliorarne la qualità.

▪Prolungare la durata delle apparecchiature:Eccellente resistenza alla corrosione, che prolunga la durata utile delle apparecchiature PECVD.

▪Ridurre i costi di produzione:I vassoi in grafite di alta qualità possono ridurre il tasso di scarto e i costi di produzione.

Materiale in grafite di SGL:

Parametro tipico: R6510
Indice	Standard di prova	Valore	Unità
Dimensione media dei grani	ISO 13320	10	μm
densità apparente	DIN IEC 60413/204	1,83	g/cm³
Porosità aperta	DIN 66133	10	%
Pori di medie dimensioni	DIN 66133	1.8	μm
Permeabilità	DIN 51935	0,06	cm²/s
Durezza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
resistività elettrica specifica	DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Forza flessionale	DIN IEC 60413/501	60	MPa
resistenza alla compressione	DIN 51910	130	MPa
modulo di Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Dilatazione termica (20-200℃)	DIN 51909	4,2 x 10^-6	K^-1
Conduttività termica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando la lavorazione di wafer di grandi dimensioni G12. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo rese più elevate e costi di produzione inferiori.

Articolo	Tipo	Porta wafer numerico
Barca in gres porcellanato PEVCD - Serie 156	156-13 barca di grefite	144
	156-19 barca in grephite	216
	156-21 barca in grephite	240
	Barca in grafite 156-23	308
Barca in gres porcellanato PEVCD - Serie 125	125-15 barca in grephite	196
	125-19 barca in grephite	252
	Barca in grafite 125-21	280