Vassoio di carico PECVD con deposizione di grafite

Immagine in evidenza del vassoio di carico in grafite con deposizione del vassoio PECVD

Breve descrizione:

Il vassoio di caricamento PECVD di VET Energy è progettato per fornire un supporto sicuro e uniforme ai wafer durante la deposizione, migliorando l'uniformità e la qualità del processo. Grazie alla sua eccellente resistenza al calore, il vassoio in grafite contribuisce a mantenere un ambiente controllato all'interno delle camere PECVD, riducendo il rischio di contaminazione e garantendo un'elevata efficienza del processo.

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Dettagli del prodotto

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Il vassoio di carico PECVD di VET Energy è un supporto di precisione progettato per il processo PECVD (deposizione chimica da vapore potenziata al plasma). Questo vassoio in grafite per deposizione di alta qualità è realizzato in grafite ad alta purezza e densità. Presenta un'eccellente resistenza alle alte temperature, alla corrosione, stabilità dimensionale e altre caratteristiche. Può fornire una piattaforma di supporto stabile per il processo PECVD e garantire l'uniformità e la planarità della deposizione del film.

I vassoi di carico PECVD di VET Energy sono ampiamente utilizzati nei settori dei semiconduttori, del fotovoltaico, dei LED e in altri settori. Ad esempio:

▪ Semiconduttori: processo PECVD per materiali semiconduttori quali wafer di silicio e wafer epitassiali.

▪ Fotovoltaico: processo PECVD per film sottili di celle solari.

▪ LED: processo PECVD per chip LED.

Vantaggi del prodotto

▪Migliorare la qualità della pellicola:Garantisce una deposizione uniforme della pellicola e ne migliora la qualità.

▪Prolunga la durata delle apparecchiature:Eccellente resistenza alla corrosione, prolunga la durata utile delle apparecchiature PECVD.

▪Ridurre i costi di produzione:I vassoi in grafite di alta qualità possono ridurre il tasso di scarti e i costi di produzione.

Materiale in grafite di SGL:

Parametro tipico: R6510
Indice	Standard di prova	Valore	Unità
Granulometria media	Norma ISO 13320	10	micron
Densità apparente	Norma DIN IEC 60413/204	1.83	g/cm³
porosità aperta	DIN66133	10	%
Pori di media grandezza	DIN66133	1.8	micron
Permeabilità	DIN 51935	0,06	cm²/s
Durezza Rockwell HR5/100	DIN IEC60413/303	90	HR
Resistività elettrica specifica	Norma DIN IEC 60413/402	13	μΩm
Resistenza alla flessione	Norma DIN IEC 60413/501	60	MPa
Resistenza alla compressione	DIN 51910	130	MPa
Modulo di Young	DIN 51915	11,5×10³	MPa
Espansione termica (20-200℃)	DIN 51909	4.2X10^-6	K^-1
Conduttività termica (20℃)	DIN 51908	105	Wm^-1K^-1

È specificamente progettato per la produzione di celle solari ad alta efficienza, supportando la lavorazione di wafer di grandi dimensioni G12. Il design ottimizzato del supporto aumenta significativamente la produttività, consentendo rendimenti più elevati e costi di produzione inferiori.

Articolo	Tipo	Numero di wafer portante
Barca Grephite PEVCD - La serie 156	156-13 barca di grefite	144
	156-19 barca di grefite	216
	156-21 barca di grefite	240
	156-23 barca in grafite	308
Barca Grephite PEVCD - La serie 125	Barca grefite 125-15	196
	Barca grefita 125-19	252
	Barca in carbonio 125-21	280