Element calefactor d'oblies de ceràmica AlN Alumina

Element calefactor d'oblies de ceràmica AlN Alumina
En la fabricació de semiconductors, les oblies s'han de processar en diversos processos, com ara la deposició de pel·lícules primes, el gravat, etc. En aquests enllaços, les oblies s'han d'escalfar a una temperatura determinada i hi ha requisits estrictes per a la temperatura, ja que la uniformitat de la temperatura té un impacte molt important en el rendiment del producte i els components de calefacció són indispensables.

Escalfador de ceràmicas'aplica directament a la cambra de procés i estan en contacte directe amb l'oblia. No només suporten l'oblia, sinó que també asseguren que l'oblia obtingui una temperatura de procés estable i uniforme. Són components clau en els equips de deposició de pel·lícules primes de semiconductors!

L'escalfador ceràmic inclou una base ceràmica que suporta l'oblia i un cos de suport cilíndric a la part posterior que la suporta. A més de l'element de resistència (capa calefactora) per a l'escalfament, també hi ha elèctrodes de radiofreqüència (capa RF) dins o a la superfície de la base ceràmica. Per aconseguir un escalfament i refredament ràpids, el gruix de la base ceràmica ha de ser prim, però massa prim també reduirà la rigidesa.

El suport de l'escalfador ceràmic generalment està fet de material ceràmic amb un coeficient de dilatació tèrmica similar al de la base. L'escalfador adopta una estructura única d'una base d'unió d'eix per protegir els terminals i els cables dels efectes del plasma i dels gasos químics corrosius. El suport està equipat amb un tub d'entrada i sortida de gas de transferència de calor per garantir una temperatura uniforme de l'escalfador. La base i el suport estan units químicament amb una capa d'unió.

L'escalfador ceràmic pot estar fet de ceràmica com ara nitrur d'alumini (AlN), nitrur de silici (Si3N4) i alúmina (Al2O3). Entre ells, l'AlN és la millor opció per a escalfadors ceràmics. En comparació amb altres materials, la ceràmica AlN de VET Energy té les següents característiques:
(1) Bona conductivitat tèrmica;
(2) Coeficient de dilatació tèrmica adaptat als materials semiconductors de silici;
(3) Les bones propietats mecàniques, l'excel·lent resistència al desgast i les propietats mecàniques completes són millors que l'òxid de beril·li i equivalents a l'òxid d'alumini;
(4) Excel·lents propietats elèctriques integrals, excel·lent aïllament elèctric i baixa pèrdua dielèctrica;
(5) No tòxic i respectuós amb el medi ambient.