Pemanas Wafer Seramik Elemen Pemanas AlN Alumina

Pemanas Wafer Seramik Elemen Pemanas AlN Alumina
Dalam pembuatan semikonduktor, wafer perlu diproses dalam pelbagai proses, seperti pemendapan filem nipis, etsa, dan lain-lain. Dalam pautan ini, wafer perlu dipanaskan pada suhu tertentu, dan terdapat keperluan yang ketat untuk suhu, kerana keseragaman suhu mempunyai kesan yang sangat penting pada hasil produk, dan komponen pemanasan sangat diperlukan.

Pemanas seramikdigunakan secara langsung pada ruang proses dan bersentuhan langsung dengan wafer. Mereka bukan sahaja membawa wafer, tetapi juga memastikan bahawa wafer memperoleh suhu proses yang stabil dan seragam. Ia adalah komponen utama dalam peralatan pemendapan filem nipis semikonduktor!

Pemanas seramik termasuk tapak seramik yang menyokong wafer dan badan sokongan silinder di bahagian belakang yang menyokongnya. Sebagai tambahan kepada elemen rintangan (lapisan pemanasan) untuk pemanasan, terdapat juga elektrod frekuensi radio (lapisan RF) di dalam atau pada permukaan asas seramik. Untuk mencapai pemanasan dan penyejukan yang cepat, ketebalan asas seramik harus nipis, tetapi terlalu nipis juga akan mengurangkan ketegaran.

Sokongan pemanas seramik biasanya diperbuat daripada bahan seramik dengan pekali pengembangan haba yang serupa dengan asas. Pemanas menggunakan struktur unik bahagian bawah sendi aci untuk melindungi terminal dan wayar daripada kesan plasma dan gas kimia yang menghakis. Sokongan dilengkapi dengan paip masuk dan keluar gas pemindahan haba untuk memastikan suhu seragam pemanas. Asas dan sokongan terikat secara kimia dengan lapisan ikatan.

Pemanas seramik boleh dibuat daripada seramik seperti aluminium nitrida (AlN), silikon nitrida (Si3N4), dan alumina (Al2O3). Antaranya, AlN adalah pilihan terbaik untuk pemanas seramik. Berbanding dengan bahan lain, seramik AlN VET Energy mempunyai ciri-ciri berikut:
(1) Kekonduksian terma yang baik;
(2) Pekali pengembangan haba dipadankan dengan bahan silikon semikonduktor;
(3) Sifat mekanikal yang baik, rintangan haus yang sangat baik, dan sifat mekanikal yang komprehensif adalah lebih baik daripada berilium oksida dan bersamaan dengan aluminium oksida;
(4) Sifat elektrik komprehensif yang sangat baik, penebat elektrik yang sangat baik dan kehilangan dielektrik yang rendah;
(5) Tidak toksik dan mesra alam.