Keramische waferverwarmer AlN aluminiumoxide verwarmingselement

Keramische waferverwarmer AlN aluminiumoxide verwarmingselement
Bij de productie van halfgeleiders moeten wafers verschillende processen doorlopen, zoals dunnefilmdepositie en etsen. Tijdens deze processen moeten de wafers tot een bepaalde temperatuur worden verhit. De temperatuur moet consistent zijn, omdat een gelijkmatige temperatuur een grote invloed heeft op de productopbrengst. Verwarmingscomponenten zijn daarom onmisbaar.

Keramische verwarmingZe worden rechtstreeks in de proceskamer aangebracht en staan ​​in direct contact met de wafer. Ze dragen niet alleen de wafer, maar zorgen er ook voor dat de wafer een stabiele en uniforme procestemperatuur krijgt. Ze zijn essentiële componenten in apparatuur voor het afzetten van halfgeleiderdunne films!

De keramische verwarmer bestaat uit een keramische basis die de wafer ondersteunt en een cilindrisch steunlichaam aan de achterzijde dat deze eveneens ondersteunt. Naast het weerstandselement (verwarmingslaag) voor de verwarming, bevinden zich ook radiofrequentie-elektroden (RF-laag) in of op het oppervlak van de keramische basis. Om snelle verwarming en koeling te bereiken, moet de keramische basis dun zijn, maar een te dunne basis vermindert de stijfheid.

De steun van de keramische verwarmer is doorgaans gemaakt van keramisch materiaal met een thermische uitzettingscoëfficiënt die vergelijkbaar is met die van de basis. De verwarmer heeft een unieke constructie met een asverbinding aan de onderkant om de aansluitingen en draden te beschermen tegen de effecten van plasma en corrosieve chemische gassen. De steun is voorzien van een inlaat- en uitlaatpijp voor warmteoverdracht om een ​​uniforme temperatuur van de verwarmer te garanderen. De basis en de steun zijn chemisch met elkaar verbonden door middel van een hechtlaag.

De keramische verwarming kan gemaakt zijn van keramische materialen zoals aluminiumnitride (AlN), siliciumnitride (Si3N4) en aluminiumoxide (Al2O3). Van deze materialen is AlN de beste keuze voor keramische verwarmingen. In vergelijking met andere materialen heeft het AlN-keramiek van VET Energy de volgende eigenschappen:
(1) Goede thermische geleidbaarheid;
(2) De thermische uitzettingscoëfficiënt is afgestemd op die van halfgeleidende siliciummaterialen;
(3) Goede mechanische eigenschappen, uitstekende slijtvastheid en algehele mechanische eigenschappen zijn beter dan die van berylliumoxide en gelijkwaardig aan die van aluminiumoxide;
(4) Uitstekende algehele elektrische eigenschappen, uitstekende elektrische isolatie en laag diëlektrisch verlies;
(5) Niet-giftig en milieuvriendelijk.